| คุณสมบัติ | รายละเอียด |
|---|---|
| วัสดุ | แก้วควอตซ์ความบริสุทธิ์สูง (SiO) ₂ ≥99.9%) |
| ความต้านทานต่ออุณหภูมิ | สูงสุด 1200 ° C (ต่อเนื่อง); 1400 ° C (ระยะสั้น) |
| ความอดทน | ± 0.05 มม. (เครื่องจักรความแม่นยำ) |
| ตัวเลือกที่กำหนดเอง | รูปร่าง (กลม / รูปไข่ / กำหนดเอง), ความหนา (0.5 มม. - 20 มม.), รูปร่าง (ขนาด / ปริมาณ) |
| การใช้งาน | เครื่องมือออปติค, เซมิคอนดักเตอร์, เตาอุตสาหกรรม, |
| ประเภท | แผ่นควอตซ์ใส |
|---|---|
| ใบสมัคร | เซมิคอนดักเตอร์, เลนส์ |
| ความหนา | 0.5-100mm |
| รูปร่าง | สแควร์ |
| บริการประมวลผล | ดัด, เชื่อม, เจาะ, ตัด |